990,9% Hohe Reinheit 1um Submikrosphärische Siliziumpulver Siliziumkugel Mikrosphäre SS-H-Serie

                           Sub-Mikron Hochreines sphärisches Siliziumdioxidpulver

                                                            SS-H-1

Einleitung:

Dieses Produkt mit hoher Sphärizitätsrate und hoher Reinheit. Die Partikelgröße und -verteilung sind einstellbar. Das Produkt wurde erfolgreich in EMC, CCL und anderen Bereichen als Füllmaterial eingesetzt, was die Steifigkeit, Verschleißfestigkeit, Wetterbeständigkeit, Schlagfestigkeit, Zugfestigkeit, Feuerbeständigkeit, Lichtbogenisolationsbeständigkeit und UV-Strahlungsbeständigkeit von elektronischen Produkten erheblich verbessern kann.

Merkmal: SiO₂ > 99,9%

Anwendung:

EMC, CCL, Photovoltaik-Tiegelbeschichtung, Spezialbeschichtung, Tinte, spezielle Keramikmaterialien, technische Kunststoffe usw.

Produktparameter:

Die obigen Spezifikationen gelten für allgemeine Verwendungszwecke und können auf Anfrage des Benutzers angepasst werden.